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EVG 谈 NIL 用于光子芯片量产
原始标题：In Semicon Taiwan, EVG had described the use of Nano-Imprint Lithography (NIL) in the mass manufacture of Photonic Integrated Circuits an...
内容摘要
在 Semicon Taiwan 上，EVG 介绍了纳米压印光刻（NIL）在光子集成电路大规模制造以及激光器制造中的应用。NIL 特别适合在光子芯片内定义周期性结构，例如光栅耦合器，或用于微发射器阵列的微透镜阵列，并有可能用于 DFB 激光器光栅。(1/3)🧵
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