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余承东:EUV 设备是制造先进芯片的关键,国内正在研发

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原始标题:华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发

内容摘要

华为余承东在 9 月 29 日国际媒体圆桌会议上表示,极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,中国目前正在研发这些设备,现阶段国内仍依靠深紫外光刻(DUV)。
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