观点 / 方法普通余承东:EUV 设备是制造先进芯片的关键,国内正在研发信息来源:IT之家(RSS)·2026-10-07 21:32原始标题:华为余承东:极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,国内目前正在研发内容摘要华为余承东在 9 月 29 日国际媒体圆桌会议上表示,极紫外光刻(EUV)设备是制造先进芯片的关键,中国目前正在研发这些设备,现阶段国内仍依靠深紫外光刻(DUV)。内容分类AI 观点与方法内容层级普通情报发布时间(北京时间)2026-10-07 21:32本站收录时间(北京时间)2026-10-07 21:48信息来源IT之家(RSS)站内情报编号intel-8bec037c0e4e594b99c6b73e阅读原始信息 ↗查看数据来源更多观点 / 方法分享文章