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ChinaTalk 访谈解析 MATCH 法案与 DUV 浸没式光刻出口管控

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原始标题:The Lithography Lever

内容摘要

ChinaTalk 播客邀请 CTS 联合创始人 Nick Brown 解析其报告《DUV Immersion Lithography: The Foundation of US AI Compute Advantage》,讨论美国为何应限制 DUV 浸没式光刻对华出口。
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