产品发布 / 更新精选
Runway Aleph 2.0 精准局部编辑轻松实现
原始标题:The edits you need, made easy. Aleph 2.0 changes just what you want edited, leaving the rest of your…
内容摘要
你需要的编辑,变得简单。Aleph 2.0 只更改你想要编辑的部分,保持画面的其余部分不变。在我们的新 Edit Studio 中试试。 通过下方链接开始使用。
内容分类AI 产品发布与更新
内容层级精选情报
发布时间(北京时间)
本站收录时间(北京时间)
信息来源X:Runway (@runwayml)
站内情报编号intel-461b8262ddc9d678f6e98cc0